タンタルコーティングターゲット

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co.、Ltd。は、Shaanxi州のBaoji Cityのハイテク開発ゾーンにあります。同社は主に、タンタルム、ニオブ、ニオビウム、ハフニウム、タンタルムタングステン合金、ニオビウムハフニウム合金C103、船舶、船舶用装飾品、ターゲットターゲットの標的装置などの深い加工製品などの深い加工製品で作られた板、ストリップ、フォイル、ロッド、ワイヤー、パイプなどの従来の加工プロファイルを生産しています。スクリーン、暖房要素、炉体（暖房炉、アニーリング炉）、腐食耐性装置。

 

 

タンタルコーティングされたターゲットの準備プロセスには、次の主な手順が含まれています

01.

準備プロセス

原材料の調製：高純度タンタル粉末（99.95％以上の純度）は、電子ビーム融解（EBM）によって溶けたり、粉末冶金で形成されたりします。 EBMメソッドは、低い沸点の不純物を除去し、酸素含有量を50ppm未満に減らし、粒子サイズを20-50μmに改良することができます。


プラスチック処理：鍛造、ローリング、熱処理を含む。多様な鍛造は{1100-1250程度で実行され、温かいローリングテクノロジー（600-800程度）がローリングに使用されます。熱処理は、処理応力を排除し、均一なA相を得るために真空アニーリングを通じて行われます。

02.

準備プロセス

精密機械加工：ブランクは、CNC旋盤/ミリングマシンを使用してターゲットサイズに機械加工され、表面粗さRAを使用して<0.4 μ m and a flatness error ≤ 0.02mm/100mm.


結合技術：拡散溶接またはろう付けを使用して、タンタルムターゲットを銅の裏地プレートで結合し、スパッタリングプロセス中の熱散逸効率を確保します

タンタルコーティングされたターゲットには、次の特性があります。

高融点と優れた耐食性：タンタルコーティングされたターゲットは、最大3017度Cの融点と5458度Cの沸点があり、優れた耐食性抵抗を示し、室温でAqua regiaと反応しません。
高温の安定性：高出力スパッタリングに適した500度Cで400MPaを超える強度を維持できます。
低ガス吸着表面エネルギー：表面エネルギーは0。8j/m²と同じくらい低く、ARガスの吸着を効果的に抑制し、フィルム堆積速度を改善します。
Excellent film properties: When the thickness of the prepared TaN barrier layer is ≤ 5nm, it can still prevent Cu diffusion, and the critical current density is>1×10⁶A/cm²。

タンタルコーティングされたターゲットの主なアプリケーションエリアには、次のものがあります。

半導体製造：タンタルコーティングされたターゲットは、特に10nmノードの下のチップで、積分回路製造の銅相互接続バリア層で一般的に使用されます。 TA/TAN二重層構造は、電気駆動の故障時間を10時間に延長できます。
光学コーティング：タンタルコーティングされたターゲットを使用して、光学デバイス、ディスプレイ、センサーで広く使用されている特定の光学特性を備えた薄膜を製造できます。
医療機器：優れた生体適合性により、タンタルコーティングされたターゲットを使用して、骨板や関節補綴などの整形外科インプラントを製造し、人間の拒絶反応を減らします。
ハイエンド製造：スパッタリングコーティングや光学コーティングなどのハイエンド製造では、タンタルコーティングされたターゲットの需要が急増し、2026年までに世界市場規模が32億7000万元に達すると予想されます。

将来的には、コーティングプロセスの継続的な最適化により、Tantalumターゲット材料は、新しいエネルギーと精密製造におけるアプリケーションの境界をさらに拡大し、技術開発のためのより信頼性の高い材料のサポートを提供します。

人気ラベル: Tantalum Coated Target、China Tantalum Coated Target Manufacturer、Suppliers、Factory, 化学タンク用のタンタル, タンタル原料サプライチェーン