耐食性ニオブ粒子

1、高-純度ニオビウム原材料の調製

• 電子ビーム融解（EBM）

高い真空環境では、高い-エネルギー電子ビームを使用してニオビウム原材料を爆撃および溶かすために使用され、酸素、窒素、炭素などの揮発性不純物を効果的に除去し、ニオビウム純度を99.95％以上または等しく増加させ、{2}- Quality Subtrates for Subtratesを提供します。

• 真空アーク融解（var）

補足的な精製方法として、非-揮発性不純物をさらに排除することができ、材料特性を最適化することができます。
2、粉末形成プロセス

• ハイドロデブロゲンプロセス（HDHメソッド）

水素化：500〜800度Cの水素雰囲気にニオブインゴットを隔離して、水素添加を誘導します。
粉砕：脆性ニオブのインゴットは、機械的に不規則な形状の粒子に押しつぶされます。
脱水素化：脱水素処理は、酸素含有量が少ないニオブ粒子を得るために、800〜1000度Cで高真空で行われます。
特性：この方法のコストは比較的低く、得られた粉末は特定の表面積が大きい場合は不規則ですが、酸素含有量は比較的高くなっています（通常は800ppm以下で制御可能です）。

• プラズマ回転電極法（準備）

高-純度ニオブ合金ロッドを消費可能な電極として使用すると、端は不活性ガス保護下でのプラズマアークによって溶けます。
電極は高速で回転し、遠心力の作用の下で、溶融液滴が捨てられ、紡績され、冷却されて高球性ニオビウム粒子を形成します。
特性：得られた粉末は、良好な球状、優れた流動性、高純度、低ガス含有量、しかし高コストを持っています。

• 機械的スクリーニングとグレーディング

使用した方法に関係なく、調製した粉末は、粒子サイズ分布を正確に制御するために、厳密な振動スクリーニングと気流分類を受ける必要があります（例：サブディビジョン：1-45μm、粗い下位：45-150μm）。
3、表面精製とパッシブ化治療（重要なステップ）

• 酸洗浄と化学洗浄

混合酸溶液（HF+HNO ∝など）を使用して粒子の表面をきれいにして、粉砕および加工中に導入された表面汚染物質と酸化物層を除去します。

• エレクトロポリッシング

特定の電解質のエレクトロポリッシング粒子は、表面の粗さを大幅に低下させ、滑らかな表面を取得します（RA<0.5 μ m), which helps to form a more uniform and dense passivation film.

• 不動態化治療

化学的または電気化学的手法（硝酸の不動態化など）により、密な、安定した、高度に粘着性の五酸化ニオビウム（Nb₂O₅）不動態化フィルムは、ニオブ粒子の表面に積極的に生成されます。これは、その耐食性を抱きしめ、強化する上で最も重要なステップです。
4、パフォーマンステストと品質管理

• 身体パフォーマンスの特性評価

粒子サイズ分布：レーザー粒子サイズアナライザーを使用します。
形態と球状：走査型電子顕微鏡（SEM）によって観察されます。
流動性：ホールの現在のメーターで測定。

• 化学組成

純度と不純物の要素：誘導結合プラズマ質量分析（ICP - MS）が使用されました。
酸素と窒素含有量：酸素と窒素分析器を使用して、指標を厳密に制御します（Oなど<800ppm, N<100ppm).

• 腐食抵抗テスト

酸性環境浸漬試験：70％の硝酸や濃縮塩酸などの溶液の年間腐食率を決定します。
電気化学試験：自己腐食電流密度を測定し、ポテンショティオダイナミック偏光曲線を介して分解電位を測定することにより、腐食抵抗を定量的に評価します。